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电子半导体废水处理案例|电子半导体废水处理方法

西南某LED概念片工作行业,因工作方式中施用砷化镓、酸洗铟等III-V族单质,废海里含砷(As)、镉(Cd)、铅(Pb)等天价属,设计的概念加工处理面积1200吨/日。 工业废水成份及主要来源 MOCVD设备清洁污水 :含前三医院基镉、前三医院基铟等可挥发合金化学物质 激光切磨细废水处理工艺 :含微米级金属制粒状 主轴电镀废气 :含铜、镍等五金正离子 清理工序步奏 什么是创新进行"腐蚀破络+血本属气体吸附+膜分离处理"组合起来技艺: 预补救單元 :加药系统次氯酸钠溶液葡萄糖氧化可挥发材料络合物 管理的本质外理单园 : 选择DTCR巨资属收集剂成型不溶解性螯合物 反渗透膜设计(UF)挤占大氧分子污染源物 反侵入(RO)脱盐率>98% 厌氧颗粒污泥补救第一单元 :离心式脱水器后转交危险废物处理心中处治 决定成效 经其次方的检测: 总砷含量:0.05mg/L(行业标准0.5mg/L) 镉浓度:0.01mg/L(标准0.1mg/L) 水工业废水处理率:75% 启用制造费:3.8元/吨水

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